Équipement de métrologie optique 100/150/200 mm
Description de l'équipement
Fonction principale
- Système de métrologie optique pour inspection complète de wafers 100 / 150 / 200 mm et substrats « exotiques » (transparents ou non standards).
- Empreinte maximale de l'installation : 3000 × 4000 × 2300 mm (W × D × H) incluant zone maintenance.
Performances de détection
- Sensibilité cible jusqu'à 60 nm sur silicium poli.
- Modes d'illumination simultanés incluant darkfield (oblique), collecte avec sélection de polarisation et usage d'au moins deux longueurs d'onde.
- Exclusion des bords mesurable jusqu'à 1,5 mm du bord du wafer.
- Précision de positionnement X/Y des défauts < 150 µm.
- Classification automatique des défauts (ex. COPs, rayures, lignes), génération de rapports et Pareto des défauts.
- Puissance d'illumination contrôlée et vérifiée pour ne pas endommager couches sensibles (tests d'impact répétés et suivi de paramètres tels que haze).
Débit et modes opératoires
- Mode haute sensibilité > 10 wafers/hour.
- Mode haute vitesse > 35 wafers/hour (mesuré à 200 mm) avec possibilité de compromis sensibilité / throughput et de tableaux relationnels.
- Queue de tâches : définition de recettes, préprogrammation et file d'attente multi-lots / multi-recettes.
Mesures, calibrations et traitements
- Deux familles de mesures distinctes : mesures wafer et mesures sur matériaux, avec traitement des données dédié.
- Calibration via PSL ou matériaux étalons dédiés ; gestion des calibrations sur matériaux variés et exotiques.
- Vérifications spécifiques : détection de lignes de glissement, corrélation haze/roughness, map-to-map, extraction de recettes.
- Export des résultats au format KLARF et compatibilité avec systèmes de gestion de rendement (Yield Management).
- Fourniture d'une station hors-ligne (offline) complète avec logiciels et licences pour exploitation et analyse (recette, extraction, post-traitement).
Manipulation des wafers et interface FOUP
- Prise en charge de diamètres 100/150/200 mm et plages d'épaisseur : thin (~300–750 µm), standard (~725 µm), bonded (750–2000 µm).
- Interface et port-load compatibles FOUPs, exigences sur surfaces de contact et zones d'interface pour limiter dommages et contamination.
- Fiabilité du handling démontrée par tests marathon (cycles prolongés, nocturnes, weekend).
Mini-environnement et contrôle de contamination
- Mini-environnement pressurisé (> 1 Pa), gestion des débits d'air et intégrité des filtres.
- Matériaux dissipatifs et contrôles ESD, mesures d'ions/particules et plan de nettoyage intégré aux tests d'acceptation.
- Compatibilité conceptuelle avec classes d'environnement ISO 14644 (mise en œuvre de mini-environnement et exigences associées).
Sécurité, conformité et environnement
- Conformité aux directives machine et sécurité (ex. Directive 2006/42/EC), marquage CE, conformité EMC/Low Voltage/CLP selon besoins.
- Scénarios et protections sécurité : interlocks, arrêts d'urgence, procédures électriques, gestion de solvants/vapeurs, contrôles anti-fuite.
- Attentes en matière d'efficacité énergétique, gestion et recyclage des fluides, émissions et élimination des déchets.
Livraison, installation et documentation
- Packaging adapté milieu propre (emballage minimisant particules), pré-installation, plan de raccordement fluides/électrique (PIDs) et assistance Hook‑Up.
- Fourniture de documentation complète : manuels d'utilisation et maintenance en français, dossiers d'installation, plans d'installation et protocoles d'acceptation.
Formation, garantie et maintenance
- Formation initiale exploitation et sécurité, formation maintenance (option) et certificats correspondants.
- Garantie constructeur minimale 1 an (extension optionnelle), support on-site avec délai de mise à disposition sous 8 heures ouvrées, indicateurs uptime / MTBF / MTTR et programme de maintenance corrective et préventive.
Vérifications et essais
- Tests en usine et sur site : campagnes de qualification (tests d'installation, tests d'acceptation), rapports de tests et protocoles d'acceptation reprenant vérifications de performance et contamination.
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