Système RT-CVD pour nanostructures carbonées

Fourniture d’un réacteur RT-CVD permettant le dépôt ou la croissance de nanomatériaux carbonés sur substrat à partir d’un précurseur carboné gazeux ou en vapeur. Le système doit permettre des rampes rapides de chauffe et de refroidissement, et l’automatisation de protocoles prédéfinis.

Caractéristiques et performances

• Encombrement maximal : 150 × 200 × 200 cm ; niveau sonore maximal de 75 dB, hors pompe et chiller. Les dimensions et le niveau sonore de l’équipement et de ses compléments doivent être précisés.
• Fonctionnement sous vide, au moins primaire ; chambre adaptée à des échantillons entre la température ambiante et au moins 1 000 °C. La variation spatiale de température sur un diamètre de 3 pouces doit être inférieure à 3 % de la consigne, et si possible inférieure à 2 %. Substrat d’au moins 3 pouces.
• Au moins quatre lignes de gaz, avec débits contrôlés par débitmètres massiques (MFC) : CH₄, Ar, H₂ et O₂. Au moins un dispositif de génération contrôlée de vapeur d’eau (vapor draw, bulleur ou DLI) ; un second système adapté à la vapeur d’éthanol est souhaitable.
• Vitesse de chauffe pouvant atteindre 10 °C/s entre la température ambiante et 900 °C, et vitesse de refroidissement pouvant atteindre 10 °C/s entre 900 °C et 600 °C. Chambre réactionnelle facilement nettoyable.

Le pilotage automatisé couvre notamment température, débits de gaz et de vapeurs, vannes, capteurs de pression et pompage, afin de réaliser un protocole RT-CVD prédéfini de façon autonome après chargement des échantillons. Une interface logicielle programmable et automatisée est requise ; la fourniture de l’ordinateur de contrôle est souhaitable. L’équipement doit être ergonomique et permettre un flux de manipulation des échantillons simple et robuste, limitant les erreurs humaines.

Prestations associées

Le titulaire assure le déchargement, la manutention, l’installation jusqu’à l’emplacement final et la mise en service, avec les moyens nécessaires à sa charge. Il assure l’équipement pendant ces opérations et prend à sa charge les dégradations éventuelles de la machine ou de son environnement d’installation.

La documentation technique détaillée et les manuels doivent décrire le fonctionnement et tous les éléments de l’équipement ; ils sont rédigés en français ou en anglais. Une formation sur site de trois journées, destinée à quatre personnes, est dispensée par un expert du titulaire. Le constructeur propose une intervention sous trois jours ouvrés en cas de panne, ainsi qu’un accompagnement technique pour le développement d’applications, la compréhension des résultats et les mises à jour du logiciel.

Deux prestations supplémentaires éventuelles facultatives peuvent être proposées : une pompe turbomoléculaire pour le vide secondaire et un système de refroidissement ultrarapide des échantillons. Le chiller, s’il est nécessaire, n’est pas fourni au titre du marché ; le système doit être compatible avec le circuit d’eau froide du bâtiment ou un circuit fermé.