Système de lithographie laser UV haute résolution pour écriture directe sur polymères photosensibles

Centre national de la recherche scientifique
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Date limite
14 septembre 2026 à 10 h
Localisation
Limoges (87)
Durée
24 mois (garantie minimale), extensions de maintenance optionnelles 1–5 ans
Budget
Non précisé

Description du système et fonctions principales

Objet

Fourniture, livraison, installation et mise en service d'un système d'écriture directe par lithographie laser UV haute résolution destiné à écrire sans masque sur polymères photosensibles.

Environnement et intégration

  • Conception et intégration pour fonctionnement en salle blanche classe ISO‑5.
  • Configuration compacte (préférence tabletop) compatible alimentation 230–240 V AC / 50 Hz et marquage CE.

Performances optiques et sources UV

  • Source UV 365 nm avec durée de vie élevée (>10 000 h) et puissance adaptée à délivrer la dose requise pour résines photosensibles.
  • Résolution minimale garantie : 0,6 µm.
  • Modes d'écriture : projection par balayage matriciel (raster) ; écriture vectorielle non requise.

Vitesses d'écriture et têtes

  • Vitesse d'écriture minimale : 10 mm²/min pour résolution < 1 µm.
  • Possibilités d'augmentation de vitesse : ~15 mm²/min à 1 µm et ~25 mm²/min à 2 µm.
  • Description claire de l'architecture de tête(s) (tête unique ou multi‑têtes) et possibilité de changement de tête sans recalibrage manuel requis.

Substrats et zone d'écriture

  • Zone d'écriture sans repositionnement jusqu'à 100 mm × 100 mm.
  • Acceptation d'échantillons de géométries variées : from 5 × 5 mm² jusqu'à 4" (circulaires ou carrés), épaisseurs 0,2 à 10 mm.
  • Compatibilité matérielle : silicium, silice, saphir, céramiques, plastiques; surfaces transparentes ou opaques; surfaces planes et légèrement non planes.

Mécanique, maintien et autofocus

  • Système de maintien par chuck à vide adapté à différentes tailles d'échantillons, avec traitement anti‑réflexion pour substrats transparents.
  • Double autofocus indépendant (optique et non‑optique) pour compenser variations de hauteur de l'échantillon sur plusieurs dizaines de µm.
  • Système de visualisation optique pour alignement sans émission UV, champ de vision ≥ 10 mm × 10 mm et résolution suffisante pour motifs de ~1 µm.

Logiciel et compatibilités

  • Logiciel de pilotage multi‑utilisateur ; support natif des formats GDSII et DXF.
  • Interface conviviale permettant dessin sur image en temps réel, exposition directe et compensation dimensionnelle pour surdosage de résine.
  • Fourniture d'une copie du logiciel d'installation (clé USB ou équivalent) et de licences/copies pour installation sur au moins deux postes supplémentaires (conditions à préciser).

Compatibilité résines et épaisseur de couches

  • Compatibilité avec résines couramment employées (ex. AZ nlof, AZ5214, SPR 220) et épaisseurs typiques 0,5 µm à ~10 µm.

Formation, documentation et transfert de compétences

  • Formation opérationnelle incluse pour trois personnes couvrant mise en œuvre et utilisation dans toutes configurations ; option de formation maintenance de premier niveau.
  • Fourniture d'une notice d'emploi détaillée et des documents d'exploitation.

Maintenance, garantie et support

  • Garantie initiale minimale (couverture pièces et main‑d'oeuvre hors pièces d'usure, frais de déplacement et transport à préciser).
  • Maintenance préventive annuelle et maintenance curative avec hotline/diagnostic à distance et intervention sur site ; traçabilité et rapports d'intervention à fournir.
  • Options tarifées d'extensions de garantie et de contrats de maintenance de 1 à 5 ans à chiffrer.

Livraison, mise en service et réception

  • Livraison, installation, mise en service et vérifications fonctionnelles intégrales par le fournisseur.
  • Réalisation des vérifications d'aptitude et de service régulier conformément aux modalités de réception (VABF/VSR) fournies par l'acheteur.

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