Four de recuit sous atmosphère contrôlée pour wafers Ø200 mm
Date limite
21 septembre 2026 à 10 hLocalisation
Grenoble (38)Durée
Non précisé
Budget
Non précisé
Description technique et exigences fonctionnelles
Fonction principale
- Fourniture d'un four de recuit destiné au traitement de wafers Ø200 mm en holders et nacelles, permettant des cycles thermiques de température ambiante à 400 °C.
- Modes de fonctionnement : vide poussé et atmosphère inerte (azote) avec possibilité d'adapter une troisième ligne gaz conditionnée en bouteille.
Hardware et fluides
- Système de pompage adapté aux exigences de pression primaire/secondaire et temps de mise à niveau, préférence pour pompe type « doigt gris ».
- Trois lignes gaz distinctes (N2, Ar, ligne adaptable), avec filtres, vannes d'arrêt, régulation et affichage des débits ; tuyauteries et raccords en acier inox 316L ; double enveloppe pour fluides agressifs/gaz toxiques.
- Mass flow controllers calibrés à ≤ 10 %.
- Gestion et enregistrement de la consommation de fluides avec export de données (SECS/GEM via SVID dédiés).
- Système de dilution et sécurité pour gaz inflammables (dilution avec azote contrôlé avant rejet).
Contrôle thermique et fiabilité procédé
- Contrôle température avec précision ±1 °C sur les plaques et homogénéité de chauffe adaptée aux exigences d'uniformité.
- Démonstration expérimentale des capacités procédés par présentation de résultats obtenus avec l'équipement proposé.
Software, communication et cybersécurité
- Interface SECS/GEM complète (prise en charge des protocoles SEMI E5, E30, E37, E39, E40, E84, E87, E90, E94 ; options possibles pour autres Exx), installation et documentation associée.
- Configuration NTP, exigences de sécurité réseau et procédures de sauvegarde ; prise en compte des mises à jour logicielles pendant période de garantie et maintenance.
- Interfaces physiques : contacts secs ou Ethernet, actions de veille paramétrables et restauration automatique après redémarrage.
Transfert et manipulation des wafers
- Prise en charge de wafers Ø200 mm (épaisseur et tolérances à respecter) ; nacelles/holders en graphite pour formats définis ; surfaces de préhension en graphite/quartz.
- Ports de chargement compatibles FOUP/Load Port selon standards SEMI (interfaces Gx.x selon configuration requise).
Mini-environnement et salle blanche
- Mini-environnement avec surpression > 1 Pa ; débits d'air spécifiés (30–40 cm/s à 10 cm sous filtres ; 20–40 cm/s sur wafers) et intégrité des filtres.
- Matériaux dissipatifs et gestion ESD ; contrôles particulaires en mode statique et dynamique avec échantillonnage et seuils définis.
- Compatibilité des interfaces et comportements attendus vis-à-vis des paramètres salle blanche (propreté, température, humidité, COV).
Contamination et contrôles qualité
- Contrôles et tests anti-contamination (contrôles métalliques et non métalliques, essais TXRF selon niveaux C4/C5) ; procédures d'acceptation et rapports de mesures.
Livraison, installation, formation et documentation
- Fourniture de documentation en français (notices d'utilisation, manuels techniques, datasheets, fiches risques, documentation SECS/GEM).
- Prestation d'installation, mise en service, qualification et essais (usine, livraison, mise en service et réception) ; formation d'utilisation et sécurité, options de formation maintenance.
- Garantie standard 1 an avec options d'extension ; propositions de contrat de maintenance et fourniture de pièces détachées.
Sécurité et conformité
- Conception et protections conformes aux directives et normes applicables (analyses de risques, interlocks, modes maintenance, protections électriques et mécaniques).
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