Système de lithographie UV sans masque

Présentation du projet

• La centrale de micro nanofabrication de l'IEMN souhaite acquérir une machine de photolithographie optique sans masque pour isoler des wafers.
• Caractéristiques du système :
  • Machine de type « tabletop » avec enceinte fermée.
  • Dimensions de l'enceinte : largeur ≤ 90 cm, hauteur ≤ 100 cm, profondeur ≤ 90 cm.
  • Capacité d'insolation de wafers de 10 mm x 10 mm à 190 mm x 190 mm.
• Caractéristiques optiques :
  • Source UV à 385 nm et/ou 405 nm.
  • Au moins trois objectifs optiques avec des résolutions spécifiques.
• Système de déplacement des échantillons :
  • Platine support avec contrôle par interféromètre optique.
  • Déplacement précis et réduction des bruits acoustiques.
• Logiciel :
  • Capable de traiter des fichiers gds et de piloter des expositions multiples.

Livraison, Garantie, Maintenance, Formation, S.A.V

• Livraison à l'IEMN avec des exigences de propreté et de conditionnement.
• Garantie minimum de 12 mois, incluant le travail, les pièces et les frais de transport.
• Formation de 2 jours pour au moins 3 personnes sur l'utilisation et la maintenance de l'équipement.
• Service après-vente avec disponibilité d'ingénieurs pour intervention.

Vérification et réception des prestations

• Réception provisoire en usine avec tests de fonctionnement.
• Vérification d'aptitude et réception définitive avec validation des essais de lithographie.

Tranches

• Le marché ne comporte pas de tranches.

Prestations supplémentaires éventuelles

• PSE n°1 : Extension de garantie d'une durée de 12 mois supplémentaires.