Fourniture d'une machine de dépôt de couche mince par technique ald

Le présent marché a pour objet la fourniture d'un réacteur de croissance de couches minces par la technique ALD (Atomic Layer Deposition) pour le CNRS UMR7162. Les prestations techniques demandées incluent :

1. Fourniture de l'instrument :

   • Réacteur de croissance ALD intégré à une boîte à gants sous flux d’azote.
   • Système de décapage préalable des surfaces.
   • Transport et installation sur site.
   • Formation des utilisateurs.

2. Caractéristiques techniques :

   • Capacité à déposer des couches d’alumine (Al2O3) et d’oxyde d’hafnium (HfO2) de 1 à 20 nm d’épaisseur.
   • Intégration d’un plasma d’hydrogène pour le décapage des surfaces.
   • Compatibilité avec une salle blanche de classe ISO7.
   • Système de pompage efficace avec une consommation d’azote minimale.
   • Boîte à gants avec contrôle de l’atmosphère et purificateur de gaz.

3. Recettes à fournir lors de la réception :

   • Décapage plasma de la couche de reconstruction sur échantillons de GaAs ou AlGaAs.
   • Dépôt d’alumine et d’oxyde d’hafnium sur les mêmes échantillons.

4. Prestations supplémentaires éventuelles (PSE) :

   • PSE 1 : Extension de garantie de deux ans.
   • PSE 2 : Maintenance préventive pour deux années.
   • PSE 3 : Système de laveur de gaz (scrubber).
   • PSE 4 : Kit pour dépôt conforme avec un haut facteur de forme.
   • PSE 5 : Système de mesure in-situ des couches minces.
   • PSE 6 : Système de pompage turbomoléculaire.
   • PSE 7 : Chambre de dépôt supplémentaire pour dépôts PEALD.

5. Exigences relatives aux prestations associées :

   • Délai de livraison maximum de 24 mois.
   • Installation et vérification des matériels à l’adresse spécifiée.